⑵欲完成上述 DRAM 之製作至少需要幾道光罩(mask)?請按製程流程(processsequence),寫下光罩層的名稱與其目的。Al electrode for capacitorAl Al GateField Oxiden+ n+Gate oxidep-type Si圖二

參考答案

答案:B
難度:簡單0.858347
統計:A(98),B(1018),C(14),D(5),E(0)

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